English version Zakład Fizyki Stosowanej, Instytut Fizyki CN-D Politechniki Śląskiej, CNT ul. Konarskiego 22B, 44-100 Gliwice
telefon: 32 237 2932, faks: 32 237 1778, e-mail: zfs@polsl.pl

Dr inż.

Anna Michalewicz

Adiunkt

Instytut Fizyki, pokój 113

telefon: 32 237 1452

e-mail: Anna.Michalewicz@polsl.pl


Publikacje

  1. P. Karasiński, C. Tyszkiewicz, A. Domanowska, A. Michalewicz, J. Mazur, Low loss, long time stable sol–gel derived silica–titania waveguide films, Materials Letters 143 (2015) 5–7.
  2. K. Król, M. Sochacki, M. Turek, J. Żuk, P. Borowicz, D. Teklińska, P. Konarski, M. Miśnik, A. Domanowska, A. Michalewicz, J. Szmidt, Influence of phosphorus implantation on electrical properties of Al/SiO2/4H-SiC MOS structure, Materials Science Forum 821 (2015) 496–499.
  3. M. Matys, B. Adamowicz, A. Domanowska, A. Michalewicz, R. Stoklas, M. Akazawa, Z. Yatabe, On the origin of interface states at oxide / III-nitride heterojunction interfaces, Journal of Applied Physics 120 (2016) 225305.
  4. M. Basiaga, W. Walke, W. Kajzer, A. Hyla, A. Domanowska, A. Michalewicz, C. Krawczyk, Analysis of the corrosion protective ability of atomic layer deposition silica-based coatings deposited on 316LVM steel, Materialwissenschaft Und Werkstofftechnik 49(5) (2018) 551–561.
© 2008-2019 ZFS, projekt i kodowanie: AKB (na podstawie poprzedniego projektu B. Buraka i M. Szydłowskiego)
zdjęcia: M. Szydłowski, A. Domanowska, M. Szum, M. Andrzejczuk